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硅片清洗機
主要用于去除硅片表面的顆粒、有機物、金屬離子等污染物,確保芯片良率和性能。
高精度清洗技術?
?多模式清洗?:集成超聲(USM)、兆聲(Megasound)、化學噴射(RCA清洗)、刷洗等組合工藝,適配不同污染類型(顆粒、有機物、金屬離子)。
?無死角設計?:針對3D結構(如FinFET、GAA晶體管)優化噴淋臂和清洗路徑,覆蓋復雜幾何表面。
高度自動化集成?
?全自動流程?:支持上料、清洗、干燥、檢測全流程無人化操作,減少人為污染風險。
?智能調度?:與MES系統聯動,實時監控設備狀態及工藝參數,支持批量生產與小批量研發需求。
  • 內容詳情

 環境與工藝控制

   溫濕度穩定:閉環控制系統維持清洗液溫度±0.5℃精度,濕度控制防止靜電吸附。

   化學品管理:支持廢液回收與循環利用。

   防爆與安全:防爆門鎖及緊急停機功能。

 

 高效節能設計

   低耗水技術:采用“噴淋-回收”閉環系統,節水率可達60%以上。

   快速切換程序:支持多配方存儲(≥100組),換型時間<15分鐘,適應多工藝場景。

   低能耗運行:變頻電機與熱能回收系統降低綜合能耗20%-30%

 

 智能監控與數據分析

    在線檢測:集成SPC(統計過程控制)系統,實時監測顆粒計數、表面粗糙度(Ra0.1nm)等參數。

    預測性維護:通過電流監測提前預警泵體、閥門等易損件故障。

    數據追溯:存儲每片晶圓的清洗日志(時間/溫度/流量),支持ISO 26262功能安全認證需求。

 

典型應用場景

 

   邏輯芯片:7nm/5nm以下先進制程前道清洗

   存儲芯片:DRAM/NAND閃存蝕刻后去殘留

   功率器件:SiC/GaN等第三代半導體材料表面處理

   MEMS傳感器:微結構去膠及鈍化層清洗

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